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      當(dāng)前位置:首頁(yè)產(chǎn)品中心分散機(jī)德國(guó)分散機(jī)GMD2000/4納米碳纖維粉碎分散機(jī)

      納米碳纖維粉碎分散機(jī)

      產(chǎn)品簡(jiǎn)介

      SGN納米碳纖維粉碎分散機(jī)設(shè)計(jì)*,能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C(jī)多用,也可以單獨(dú)使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

      產(chǎn)品型號(hào):GMD2000/4
      更新時(shí)間:2018-05-03
      廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
      訪問(wèn)量:910
      詳細(xì)介紹在線留言

      納米碳纖維粉碎分散機(jī),納米材料研磨分散機(jī),高剪切研磨分散機(jī),碳纖維研磨分散機(jī),納米碳纖維高速研磨分散機(jī),高剪切研磨分散機(jī),SGN研磨分散機(jī)

       

      SGN納米碳纖維粉碎分散機(jī)設(shè)計(jì)*,能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C(jī)多用,也可以單獨(dú)使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。



      高速剪切研磨分散

      設(shè)備可用于先進(jìn)的納米材料的合成技術(shù),可以極大的提高納米納米材料的比表面積,使之具有更好的催化性能。這種創(chuàng)新性化學(xué)氣體凈化材料,不同于活性炭等常規(guī)氣體過(guò)濾材料,納米凈化材料應(yīng)用zui新的催化氧化技術(shù)和化學(xué)吸附技術(shù),能夠?qū)⑽廴疚?轉(zhuǎn)化成無(wú)害物質(zhì)。

      高速剪切乳化設(shè)備用于增強(qiáng)、耐磨、導(dǎo)電等領(lǐng)域的瀝青基活性碳纖維產(chǎn)品的分散和破碎,這種材料可用于空氣凈化、水凈化、溶劑回收等環(huán)保領(lǐng)域的高效吸附材料。碳纖維具有高硬度,需要超高轉(zhuǎn)速的剪切乳化設(shè)備進(jìn)行粒徑的重整。
      上海思峻提供國(guó)內(nèi)目前轉(zhuǎn)速zui高的高速剪切乳化設(shè)備和錐體研磨設(shè)備,每分鐘轉(zhuǎn)速可達(dá)10000轉(zhuǎn)以上,同時(shí)剪切分散盤(pán)材質(zhì)采用陶瓷材料,可以*解決碳纖維等材料的破碎,長(zhǎng)度縮小等功能。

       

       

      上海思峻的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。簡(jiǎn)單的說(shuō)就是將SGN/思峻膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級(jí)模塊,加入了一級(jí)分散盤(pán)。可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇) SGN研磨分散機(jī)可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm,是目前國(guó)產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

      詢(xún)價(jià)和技術(shù)問(wèn)題請(qǐng)來(lái)電:李 ()   公司有樣機(jī)可供客戶(hù)購(gòu)前實(shí)驗(yàn),歡迎廣大客戶(hù)來(lái)我司參觀指導(dǎo)。

       

      GMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

      *級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

      第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?/span> 在對(duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿(mǎn) 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿(mǎn)足預(yù)期的應(yīng)用。

       

       

      從設(shè)備角度來(lái)分析,影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn):

      1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

      2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

      3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好)

      4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間(可以看作同等電機(jī),流量越小效果越好)

      5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)

       

      線速度的計(jì)算:

      剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

      剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
                     g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

      由上可知,剪切速率取決于以下因素:

      轉(zhuǎn)子的線速率

      在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
      SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

      速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

       所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的

       

      GMD2000選型表
       

      型號(hào)

      流量

      L/H

      轉(zhuǎn)速

      rpm

      線速度

      m/s

      功率

      kw

      入/出口連接

      DN

      GMD2000/4

      300

      9000

      23

      2.2

      DN25/DN15

      GMD2000/5

      1000

      6000

      23

      7.5

      DN40/DN32

      GMD2000/10

      2000

      4200

      23

      22

      DN80/DN65

      GMD2000/20

      5000

      2850

      23

      37

      DN80/DN65

      GMD2000/30

      8000

      1420

      23

      55

      DN150/DN125

      GMD2000/50

      15000

      1100

      23

      110

      DN200/DN150

       

      流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

       

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