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油性石墨漿料研磨分散機，采用德國先進的高速研磨分散技術,通過超高轉速（高可達14000rpm）帶動超高精密的磨頭定轉子（通常配GMD 8SF,定轉子間隙在0.2-0.3mm之間）使石墨烯漿料在設備的高線速度下形成湍流,在定轉子間隙里不斷的撞擊,破碎,研磨,分散,均質,從而得出超細的顆粒（當然也需要合適的分散劑做助劑）。綜合以上幾點可以得出理想的石墨烯漿料。
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石墨烯漿料分為兩種，以水為介質分散叫水性，以NMP為介質分散叫油性，石墨烯根據石墨烯原料的不同，一般含量在2.5-5的固含量之間打成漿料，影響石墨烯分散或者剝離的因素有很多，設備的選型，分散劑的使用，固含量的把握。
石墨烯：是一種二維碳材料，是單層石墨烯、雙層石墨烯和多層石墨烯的統稱，石墨烯有單層、雙層、多層。石墨烯分類具體如下：
單層石墨烯：指由一層以苯環結構（即六角形蜂巢結構）周期性緊密堆積的碳原子構成的一種二維碳材料。
雙層石墨烯：指由兩層以苯環結構（即六角形蜂巢結構）周期性緊密堆積的碳原子以不同堆垛方式堆垛構成的一種二維碳材料。
少層石墨烯：指由3-10層以苯環結構（即六角形蜂巢結構）周期性緊密堆積的碳原子以不同堆垛方式堆垛構成的一種二維碳材料。
多層或厚層石墨烯：指厚度在10層以上10nm以下苯環結構（即六角形蜂巢結構）周期性緊密堆積的碳原子以不同堆垛方式堆垛構成的一種二維碳材料。
石墨烯主要制備方法：制備石墨烯常見的方法為機械剝離法、氧化還原法、SiC外延生長法和化學氣相沉積法（CVD）。
1.機械剝離法是利用物體與石墨烯之間的摩擦和相對運動，得到石墨烯薄層材料的方法。這種方法操作簡單，得到的石墨烯通常保持著完整的晶體結構，但是得到的片層小，生產效率低。
2.氧化還原法是通過將石墨氧化，增大石墨層之間的間距，再通過物理方法將其分離，然后通過化學法還原，得到石墨烯的方法。這種方法操作簡單，產量高，目前國內使用氧化，還原法制作石墨烯漿料的。
3.SiC外延法是通過在超高真空的高溫環境下，使硅原子升華脫離材料，剩下的C原子通過自組形式重構，從而得到基于SiC襯底的石墨烯。這種方法可以獲得高質量的石墨烯，但是這種方法對設備要求較高
4.CVD也叫氣相沉積法是目前很有可能實現工業化制備高質量、大面積石墨烯的方法。這種方法制備的石墨烯具有面積大和質量高的特點，國內用氣相沉積法制作石墨烯漿料的如 重慶墨稀、常州第六元素等企業
GMD2000研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到更低，保證機器連續24小時不停機運行。
GMD2000研磨分散機有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，GMD2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。
GMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。
GMD2000系列油性石墨漿料研磨分散機設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
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