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      PRODUCTS CNTER

      當(dāng)前位置:首頁產(chǎn)品中心研磨分散機醫(yī)藥級研磨分散機GMD2000硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機

      硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機

      產(chǎn)品簡介

      GMD2000硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

      產(chǎn)品型號:GMD2000
      更新時間:2018-04-24
      廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
      訪問量:1149
      詳細(xì)介紹在線留言

      硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機,硫酸頭孢喹肟混懸液研磨分散機,硫酸頭孢喹咪混懸液研磨分散機,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

       

       

      zui終產(chǎn)品: 混懸液

      用途: 混懸液

      工藝要求: 與藥物接觸部分為

      原材料: 硫酸頭孢喹肟

      液體(%): 三乙酸甘油酯、氫化蓖麻油、丙二醇

      固體(%): 硫酸頭孢喹肟

      密度(kg/m3): 1.05 溫度() 35

       

       將頭孢喹肟原料藥加入至乳化罐,加適量三乙酸甘油酯,經(jīng)研磨分散機進行分散均勻,加入丙二醇,混合均勻。

      詢價和技術(shù)問題請來電:李 ()   公司有樣機可供客戶購前實驗,歡迎廣大客戶來我司參觀指導(dǎo)。

      1、因該機轉(zhuǎn)、定子間隙不可調(diào),是否適用于制備以以上附加劑的混懸劑?

      2、該機粉碎以上附加劑,會不會造成定轉(zhuǎn)子接觸部分磨損?

      3、該機能否實現(xiàn)細(xì)碎至通過顆粒直徑100%小于50um。其中D95<20um,D90<10um,D80<5um目的?

       

       

      細(xì)化作用一般來說要強于均質(zhì)機,但它對物料的適應(yīng)能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。

      研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

      級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

       

      第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

       

      GMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

       

      硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機的型號

       

      研磨分散機

      流量*

      輸出

      線速度

      功率

      入口/出口連接

      類型

      l/h

      rpm

      m/s

      kW

       

      GMD 2000/4

      300

      9,000

      23

      2.2

      DN25/DN15

      GMD 2000/5

      3000

      6,000

      23

      7.5

      DN40/DN32

       GMD 2000/10

      8000

      4,200

      23

      22

      DN80/DN65

      GMD 2000/20

      20000

      2,850

      23

      37

      DN80/DN65

      GMD 2000/30

      40000

      1,420

      23

      55

      DN150/DN125

      GMD2000/50

      120000

      1,100

      23

      110

      DN200/DN150

      *流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到允許量的10%。

      1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

       

       

      信息來源:www.sgnprocess。。cn

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