低銀含量導(dǎo)電銀漿高剪切研磨分散機(jī)

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

低銀含量導(dǎo)電銀漿高剪切研磨分散機(jī)，在導(dǎo)電漿料領(lǐng)域里，銀系漿料具有導(dǎo)電率高、性能穩(wěn)定、可印刷性好、與基板結(jié)合強(qiáng)度大等特點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于各種電子元器件的生產(chǎn)，如集成電路、薄膜開(kāi)關(guān)、電加熱膜片等。導(dǎo)電銀漿是指印刷于導(dǎo)電承印物上，使之具有傳導(dǎo)電流和排除積累靜電荷能力的銀漿，一般是印在塑料、玻璃、陶瓷或紙板等非導(dǎo)電承印物上。

產(chǎn)品型號(hào)：GMSD2000

更新時(shí)間：2025-08-06

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

訪問(wèn)量：281

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低銀含量導(dǎo)電銀漿高剪切研磨分散機(jī)，導(dǎo)電銀漿管線式研磨分散機(jī)，導(dǎo)電銀漿超高速分散機(jī)，超高速膠體磨，超高速分散機(jī)，超高速研磨機(jī)，管線式研磨機(jī)，管線式膠體磨，研磨分散機(jī)廠家

導(dǎo)電銀漿制備工藝簡(jiǎn)單，減少了貴金屬銀粉的用量，大幅度降低了導(dǎo)電銀漿的生產(chǎn)成本；而且使用的納米碳化硅環(huán)氧樹(shù)脂也大大的提高了材料的導(dǎo)熱性能和力學(xué)性能，納米碳化硅不僅降低環(huán)氧樹(shù)脂的玻璃轉(zhuǎn)變溫度，同時(shí)也降低了導(dǎo)電漿的使用溫度。因此該導(dǎo)電漿成本低，附著力強(qiáng)，成膜簡(jiǎn)單，具有重要的應(yīng)用價(jià)值。

導(dǎo)電銀漿高剪切研磨分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

第1級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來(lái)滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

低銀含量導(dǎo)電銀漿高剪切研磨分散機(jī)

GMSD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

設(shè)備其它參數(shù):

設(shè)備等級(jí)：化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無(wú)菌級(jí)
電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件： PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配：儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車
研磨分散機(jī)表面處理：拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

低銀含量導(dǎo)電銀漿高剪切研磨分散機(jī)

從設(shè)備角度來(lái)分析，影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn)：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間（可以看作同等電機(jī)，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）

低銀含量導(dǎo)電銀漿高剪切研磨分散機(jī)

研磨分散機(jī)	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
GMSD2000/4	400	14,000	44	4	DN25/DN15
GMSD2000/5	1000	10,050	44	11	DN40/DN32
GMSD2000/10	3000	7,500	44	22	DN80/DN65
GMSD2000/20	8000	4,900	44	45	DN80/DN65
GMSD2000/30	20000	2,850	44	90	DN150/DN125
GMSD2000/50	60000	1,100	44	110	DN200/DN150
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。