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產品簡介
納米小型真空均質機是適配實驗室研發的緊湊型設備，由真空系統與高剪切均質機組合而成。通過真空環境消除泡沫、隔絕空氣，配合高速定轉子產生強剪切力，實現物料納米級細化與均勻分散。可模擬量產參數，廣泛用于醫藥、食品等領域的小試與中試驗證。
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均質機可以有效的消除均質過程中泡沫，可以是物料均質的更che底；真空均質機也可以用于一些不易于空氣接觸的物料（易燃易爆），規避風險，提高生產的安全性。
均質機是由真空系統和均質機組成，一個真空罐體和管線式均質機相結合，真空罐內可以根據物料的粘稠度來配置相應的攪拌機（普通攪拌或者刮壁攪拌），小型真空罐有進料口、觀察窗、放空閥等。小型管線式均質機為GR2000/4高剪切均質機，是一款小試和中試的理想均質設備，GR2000/4設備轉速高達9000rpm，三級工作頭，采用德國博格曼雙端面機械密封，均質效果jue佳。
影響均質均質結果的因素有以下幾點
1 均質頭的形式（批次式和連續式）（連續式比批次好）
2 均質頭的剪切速率 （越大，效果越好）
3 均質頭的齒形結構（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）
4 物料在均質墻體的停留時間，均質均質時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）
5 循環次數（越多，效果越好，到設備的期限，就不能再好）
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
– 轉子的線速率
– 在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
SID 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉子直徑）X 轉速 RPM / 60
納米小型真空均質機設備選型表:
標準流量 | 輸出轉速 | 標準線速度 | 馬達功率 | |||
L/H | rpm | m/s | KW | |||
GRS2000/4 | 300 | 14000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
GRS2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
GRS2000/10 | 3000 | 7500 | 44 | 22 | DN50 | DN50 |
GRS2000/20 | 20000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
GRS2000/30 | 40000 | 2850 | 44 | 75 | DN150 | DN125 |
GRS2000/50 | 60000 | 2000 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
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